Kongre üyeleri Biden yönetiminden çip tasarım yazılımını Çin’den uzak tutmasını istedi.
Ars Technica’nın haberine göre Senatör Tom Cotton ve Temsilci Michael McCaul, dün ABD Ticaret Bakanlığı tarafından elektronik tasarım otomasyonu (EDA) araçlarının “temel teknolojiler” olarak belirlenmesini talep etti. Etiket, EDA araçlarını Çinli şirketlere satmak isteyen şirketlerin ihracat lisansı almasını gerektirebilir. Kongre üyeleri ayrıca Ticaret Bakanı Gina Raimondo’ya yazdıkları mektupta, dünya çapında Amerikan yazılımlarını kullanan herhangi bir fabrikanın Çinli şirketlere 14nm veya daha iyi çip satmasının engellenmesini talep etti.
Yarı iletkenlerdeki mevcut son teknoloji 5 nm düğümü ve şu anda yalnızca Samsung ve Tayvanlı yarı iletken şirketi TSMC bu düğümde ticari olarak yongalar üretebiliyor. Çinli şirketleri 16 nm veya daha büyük bir kapasiteyle sınırlandırmak, muhtemelen onları dört nesil boyunca son teknolojiden uzak tutabilir.
Yarı iletkenler, geçen yıl 300 milyar dolardan fazla çip ithal eden Çin için inanılmaz derecede önemli. Bu, ülkenin petrol ithalatına harcadığından daha fazla.
ABD hükümeti, Çinli şirketleri EDA araçlarından mahrum edecek olsaydı, bu ülkenin halihazırda geri kalmış yarı iletken endüstrisine önemli bir darbe olurdu. Çinli yarı iletken üreticileri neredeyse tamamen yabancı araçlara ve yazılıma bağımlıdır ve ülkenin kendi EDA yazılımı sekiz ila on yıl geride. ABD dışında da bulunan EDA şirketleri var, ancak bazı tahminlere göre pazarın yaklaşık yüzde 90’ını kontrol eden Cadence Design Systems ve Synopsys gibi şirketlerin olduğu sektörde Amerikan firmaları özellikle baskın.
Çin Geride mi Kalıyor?
Her ne kadar son yıllarda SMIC gibi şirketler ağırlıklı olarak TSMC ve Samsung’dan mühendisler işe alsa da Çin yarı iletken pazarı her zaman son teknonlojinin gerisinde kaldı. Şirket, 14 nm’de makul sayıda çip üretiyoru ve geçen yıl yüzde 57 daha verimli ve yüzde 20 daha hızlı olduğunu söylediği “N + 1” düğümünü duyurdu. Ancak bu yeni süreçteki verimin düşük olduğu bildiriliyor ve SMIC, fotolitografi şirketi ASML‘den Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) makinesi alamazsa, muhtemelen bir çıkmaza girecek.
EUV, 5 nm veya altında yarı iletkenler üretmek için gerekli. Teknoloji, özellikleri bir wafer üzerine kazımak için 13,5 nm UV ışığı kullanıyor. Mevcut derin ultraviyole araçları (DUV) 193 nm ışık kullanıyor. Endüstrinin DUV’nin daha küçük düğümlerde çalışmasını sağlamak için uyguladığı zekice yöntemlere rağmen, DUV kullanılarak 7 nm’nin altındaki verimler ticari olarak uygulanabilir olamayacak kadar düşük verimlilikte.
Yine de SMIC’in ASML’nin en gelişmiş makinesini kullanması pek olası değil. SMIC, 2018’de bir EUV makinesi siparişi verdi, ancak bu sipariş ASML’nin bulunduğu Hollanda’daki hükümet yetkilileri tarafından ertelendi. ABD hükümeti, sipariş verildikten hemen sonra Hollandalı yetkililere satışı durdurmaları için baskı yapmaya başladı ve bir buçuk yıl önce, ABD, Hollanda ve Japonya (burada Canon, gelişmiş litografi araçlarının başka bir potansiyel tedarikçisidir) Çin’e gelişmiş yonga üretim ekipmanı satmamak için geçici bir anlaşma yaptı.
Cotton ve McCaul’un Çin’in gelişmiş EDA yazılımı edinmesini engelleme talebi, Çin’in tutkusunu daha da engellemesi muhtemel. Yarı iletken üretimi giderek daha karmaşık hale geldikçe, yonga üretmek için gereken araçlar da yüksek bir hızla ilerliyor. Çin’in EUV almasının engellenmesi, ülkeyi muhtemelen on yıl veya daha fazla geriye götürecektir. Çin hükümeti, yarı iletken endüstrisini en ileri seviyeye çıkarmak için 1 trilyon dolardan fazla para harcıyor, ancak yine de rüzgarla karşı karşıya. Örneğin, ASML’nin EUV araçlarının müşterilerin üretim hatlarına takılmaya hazır hale gelmesi on yıldan fazla sürdü. Çinli şirketlerin EDA araçlarına erişimini kısıtlamak, yalnızca halihazırda büyük olan zorluklarını artıracaktır.
