Zelenograd, Rus hükümetinin X-ray litografisiyle ilgili araştırmalarını kolaylaştırmak için 670 milyon ruble (8,5 milyon dolar) bütçe ayıracağını bildirdi. Moskova Elektronik Teknolojisi Enstitüsü (MIET), Ticaret ve Sanayi Bakanlığı’ndan gelen bu fonları kullanacak ve bir X-ışını senkrotronu veya plazma kaynağına dayalı litografik makine geliştirme planlarını ilerletecek. Sonuç olarak, bu makinelerin 28nm, 16nm ve daha küçük tasarımlara sahip yarı iletken wafer’ları işlemesi bekleniyor.
Batı yaptırımları, yalnızca gündelik ürünler ve tüketici teknolojileri üzerinde değil, aynı zamanda yerel sanayi (ordu gibi) için gerekli yarı iletkenler üzerinde de Rusya’ya ağır bir yük bırakıyor. Rus hükümeti, geçen ayın sonunda yerel araştırma enstitülerine yerli yarı iletken üretimi için makineler geliştirilmesi amacıyla ciddi bir fon sağlamaya karar verdi. Hükümet ayrıca Çin ile daha yakın ilişkiler geliştirmenin yollarını düşünüyor.
Hollanda merkezli ASML, dünya çapında son derece gelişmiş fabrikaların kalbinde yer alan EUV litografi makinelerini üretiyor. TSMC, Samsung ve Intel gibi şirketler bu makineleri erken tedarik etmek için her şeyi yapıyor. Öte yandan ileri teknoloji yaptırım listelerinde yer alan ülkeler var: Rusya ve Çin.
Kaynak ilginç bir şekilde Rusya’nın 2010’larda EUV litografi gelişimine dahil olduğunu belirtmiş. Önde gelen bilim insanları, çalışmanın coğrafi izolasyonda yapılamayacağına karar verdiler, bu nedenle araştırmaların bir kısmı (özellikle radyasyon kaynakları ile ilgili) ASML ile paylaşıldı ve uygulandı.
Rusya’daki diğer geçmiş çalışmalar, 1980’lerin ortalarında Zelenograd’da synchrotron X-ışını radyasyon kaynağının geliştirilme sürecine dayanıyor. Bu teknoloji görünüşe göre ileri görüşlü bilim insanları tarafından mikroelektronik işleme ihtiyaçları için geliştirildi, ancak projeler bir şekilde ilerlemedi. Tüm deneyimler şimdi yeni finanse edilen X-ray litografi araştırmasında kullanılacak ve yanı cihazların 2023 yılına kadar hazır olacağı söyleniyor.
X-ray litografi araştırmaları 2022 Kasım ayından itibaren başlayacak. Aradaki zaman diliminde ise prototip X-ışını litografi makineleri için önerilen teknik özellikler ve fizibilite çalışmaları yapılmış olacak. Dyuzhev’e göre, herhangi bir yeni X-ray litografi makinesini kullanan test üretimi için beş yıl veya daha fazla beklememiz gerekiyor.
