Samsung, gelişmiş 7nm EUV üretimi ile yeni nesil teknolojilere güç verecek.
Gelişmiş yarı iletken teknolojisinde ön sıralarda yer alan Samsung Electronics, bugün Hwaseong Kore’deki yeni modern yarı iletken üretim hattının seri üretime başladığını duyurdu. V1 tesisi, Samsung’un extreme ultraviyole (EUV) litografi teknolojisine adanmış ilk yarı iletken üretim hattı. Burada 7 nanometre ve altındaki teknolojiler kullanılarak yeni çipler üretilecek.
Samsung Electronics Döküm İşletmesi Başkanı Dr. ES Jung, “Teknoloji liderliği ve tasarım altyapısının yanı sıra imalat kalitesi, döküm işinin en önemli unsurlarından biridir. Üretimi artırdığımızda, V1 hattı pazar talebine cevap verme ve müşterilerimizi destekleme yeteneğimizi artıracak.” diyor.
V1 üretim hattı şu anda 7 ve 6 nm işlem teknolojisine sahip son teknolojili mobil yongalar üretmekte ve 3 nm teknolojisine kadar daha ince yapıdaki devreleri üretmeye devam edecek. V1 hattı Şubat 2018’de açıldı ve 2019’un ikinci yarısında test üretimine başladı. Seri üretime geçildikten sonra ürünlerin ilk çeyrekte müşterilere teslim edilmesi planlanıyor.
5G, yapay zeka ve otomotiv gibi yeni nesil sektörlerde kullanılan uygulamalar için EUV litografi teknolojisi gün geçtikçe daha fazla önem arz etmeye başladı. Bu sektörler geliştikçe iş yükleri de büyük oranda artmaya devam ediyor. Geliştirilen yeni üretim tesislerinde verimlilik ve üst seviye performans ile bu pazarlarda isteklerin karşılanması hedefleniyor.
İlginizi çekebilir: TSMC, “3 nm” Teknolojisi için Tarih Verdi
